ایجادوبررسی الگوهای نانو بر سطح فیلم پلیمری آزو با گروهای جانبی سیانو

پلیمرهای بارنگینه های جانبی آزوبنزن از اهمیت بسزایی در علوم و تکنولوژی برخورداردارند.مهمترین مشخصه این مواد چرخه فوتو ایزومریزاسیون ترانس-سیس-ترانس است.این چرخه می تواندمنجربه پدیده بسیار مهم باز جهت گیری رنگینه ها و حرکت آنها در داخل فیلم پلیمری شود که آنها را برای کاربردهایی نظیر سویچ های نوری ،حافظه های نوری، الگودهی نانومتری سطح و ... مفیدمی سازد. در این کار تجربی الگوهای خودسامانده برسطح فیلم پلیمری آزو با گروه جانبی سیانو برای اولین بار ایجاد شده و مورد بررسی قرار گرفت. وجود گروه سیانو باعث بروز رفتارهای بلورمایعی در این مواد شده است. افزایش توان نور نویسنده باعث افزایش آهنگ رشد الگوهای خودسامانده شده و شدت پراش اشباع را نیز افزایش می دهد. پلیمر استفاده شده دارای فضاساز اتوکسی اتیلن و گروه سیانو آزوبنزن در زنجیره جانبی می باشد.فضاساز طویل و گروه مزوژنی سیانوآزوبنزن باعث می شود این پلیمرمشخصات بلورمایع را نشان دهد.با افزایش شدت نورنویسنده آهنگ رشد توریهای خودسامانده افرایش می یابد، زیرا افزایش شدت نور باعث افزایش ایزومریزاسیون ترانس به سیس شده و موجب افزایش ایزومرهای سیس و مهاجرت می گردد.